FB100 Plasma chemical processes (Plazmochemické procesy)

Přírodovědecká fakulta
podzim 2008
Rozsah
2/0. 2 kr. Ukončení: z.
Vyučující
prof. RNDr. Mirko Černák, CSc. (přednášející)
prof. RNDr. Jan Janča, DrSc. (přednášející)
doc. Ing. Pavel Šunka, CSc. (přednášející)
Garance
prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
Ústav fyziky a technologií plazmatu – Fyzikální sekce – Přírodovědecká fakulta
Kontaktní osoba: prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
Rozvrh
Po 16:00–17:50 Fs1 6/1017
Předpoklady
F5170 Fyzika plazmatu && F7241 Fyzika plazmatu 1
F5170 Fyzika plazmatu
Omezení zápisu do předmětu
Předmět je otevřen studentům libovolného oboru.
Cíle předmětu
The goal of this subject is an understanding of selected topics from plasma chemistry with special attention to the techniques important in iindustry.
The main items are as follows:
Rate of plasma chemical reaction.
Different kinds of plasma chemical reactions.
Homogeneous and heterogeneous plasma chemical reactions.
Plasma chemical reactors.
Power supply and matching networks of plasma chemical reactors.
Plasma surface treatment of solid materials.
Plasma polymerization.
Deposition of thin films.
Plasma sputtering and plasma spraying.
Deposition of hard and supra hard coatings.
Mebranes and semipermeable thin films.
Plasma ashing and plasma etching.
Plasma chemical processes in semiconductor industry.
Plasma in modern lighting techniques.
Plasma metallurgy.
Osnova
  • Rate of plasma chemical reaction.
  • Different kinds of plasma chemical reactions.
  • Homogeneous and heterogeneous plasma chemical reactions.
  • Plasma chemical reactors.
  • Power supply and matching networks of plasma chemical reactors.
  • Plasma surface treatment of solid materials.
  • Plasma polymerization.
  • Deposition of thin films.
  • Plasma sputtering and plasma spraying.
  • Deposition of hard and supra hard coatings.
  • Mebranes and semipermeable thin films.
  • Plasma ashing and plasma etching.
  • Plasma chemical processes in semiconductor industry.
  • Plasma in modern lighting techniques.
  • Plasma metallurgy.
Literatura
  • FRIDMAN, Aleksandr Arkad'jevič. Plasma chemistry. 1st pub. Cambridge: Cambridge University Press, 2008, xlii, 978. ISBN 9781107684935. info
  • SMIRNOV, Boris Michajlovič. Plasma processes and plasma kinetics : 586 worked out problems for science and technology. Weinheim: WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 2007, ix, 572. ISBN 9783527406814. info
  • FRIDMAN, Aleksandr Arkad'jevič a Lawrence A. KENNEDY. Plasma physics and engineering. New York: Taylor & Francis, 2004, 853 s. ISBN 1560328487. info
  • Techniques and applications of plasma chemistry. Edited by John R. Hollahan - Alexis T. Bell. New York: John Wiley & Sons, 1974, viii, 403. ISBN 0471406287. info
  • MCTAGGART, Frederick Kenneth. Plasma chemistry in electrical discharges. Amsterdam: Elsevier Publishing Company, 1967, xi, 246. info
Metody hodnocení
Přednášky.Kolokvium s písemným testem.
Vyučovací jazyk
Angličtina
Informace učitele
Pro studenty kombinovaného studia bude učitelem dodána vhodná literatura, resp. kopie vybraných částí.
Další komentáře
Poznámka k ukončení předmětu: Způsob ukončení je dán individuálním studijním plánem
Předmět je dovoleno ukončit i mimo zkouškové období.
Předmět je vyučován každoročně.
Předmět je zařazen také v obdobích podzim 2007 - akreditace, podzim 1999, podzim 2010 - akreditace, podzim 2000, podzim 2001, podzim 2002, podzim 2003, podzim 2004, podzim 2005, podzim 2006, podzim 2007, podzim 2009, podzim 2010, podzim 2011, podzim 2011 - akreditace, jaro 2012 - akreditace, podzim 2012, podzim 2013, podzim 2014, podzim 2015, podzim 2016, podzim 2017, podzim 2018, podzim 2019, podzim 2020, podzim 2021, podzim 2022, podzim 2023, podzim 2024.