Sondové metódy STM, AFM a NSOM
Výnimočnú O rozlišovaciu schopnosť skanovacieho tunelového mikroskopu
(STM), mikroskopu atomárnych síl (AFM) alebo optického mikroskopu v blízkom
poli (NSOM) možno úspešne použiť na litografiu (STM, NSOM) alebo obrábanie
materiálu (STM, AFM).
STM AFM NSOM
Litografia – pomalé, malá hĺbka expozície, horšie rozlíšenie než pri mikroskopii.
AFM + STM – lokálna oxidačná litografia, ak je hrot pripojená k zápornému pólu.
Uberanie materiálu – ak hrot použijem ako rydlo
Nanášania materiálu – dip pen method
Veľkokapacitné sondové metódy
• Bežné STM a AFM hroty skanujú rýchlosťou 1-10μm/s. Optimalizácia
realizácie spätnej väzby umožnila dosiahnuť 3 mm/s, stále je to však
málo pre veľkokapacitné využitie.
• Riešením sa javí byť konštrukcia multisondových zostáv (napr. IBM
Zurich – Millipede, pre zápis dát)
F3390 – Výroba mikro a nanostruktur
2014
Lekcia 5
Leptanie a lepenie
Odoberanie materiálu
• Mokré a suché (plazmové) leptanie
• Leštenie
• Frézovanie (milling)
Leptanie – chemické odstraňovanie materiálu.
• Selektívnoť
Leptaním chceme odstrániť materiál skrz otvory v maske. Preto je dôležité,
aby bola samotná maska leptaná oveľa pomalšie ako substrát. Vysoká
selektivita znamená malé straty masky.
• Anizotrópnosť
Ideál je obraz masky dokonale prenesený na substrát. Rôzna rýchlosť
leptania v jednotlivých smeroch však robí leptanie anizotrópne.
Mokré leptanie
Mokré leptania je obvykle izotrópne,
šírenie leptania je možno popísať
sférickou vlnou.
Podleptávanie pri izotrópnom leptaní
sa s výhodou využíva pri MEMS pre
tzv undercutting.
Anizotrópne leptanie je typické pre
kremík leptaný zásadami, kde
rýchlosť leptania závisí od
kryštalickěho smeru.
Leptanie prebieha: v tanku (kúpeli,
lázni), sprejovaním(šetrí náklady)
alebo jednostranne na odstredivke
(spin coater). Typická je prevádzka pri
vyššej teplote.
Chemizmus
Typy mokrého leptanie možno z
chemického hľadiska rozdeliť na
dve hlavné triedy:
Leptanie kovov:
elektrónový transfer
Kov(s)  Kov(s)n+ (aq) + neLeptanie
izolantov:
acido-bázická reakcia
SiO2 + 6HF  H2SiOF6 (aq)+ 2H2O
Tvrdá maska / hard mask
Chemická odolnosť fotorezistu nemusí byť vždy kompatibilná s potrebnou
leptacou látkou. Substrát sa preto pokryje odolnou vrstvou, na ktorej sa
pomocou fotorezistu vytvorí tzv. tvrdá maska.
Napr. Si3N4 leptá kyselina fosforečná (H3PO4) pri 180 °C. To žiadny fotorezist
nevydrží. Preto sa pomocou CVD nanesie na nitrid nová oxidová vrstva, ktorá
sa fotorezitom a HF vymaskuje. Oxidová vrstva slúži jako odolná maska
Iné:
Si / KOH – SiO2 je maska
Sklo / 49%HF – Ni, Ct, amorfný kremík
Elektrochemické leptanie
Kremík sa v HF neleptá, ale ak ho pripojíme do elektrického obvodu jako
anódu, pozorujeme leptanie na úrovni 1μm/min. Podľa veľkosti prúdu
pozorujeme vertikálne porézne leptanic (malý prúd), alebo rovnomerné
leptanie (elektroleštenie).
Nevýhodou tohto leptanie je potreba elektrického kontaktu na celej
ploche Si.
Bola overená možnosť e-chem leptať s AFM aj STM hrotom, zapojeným v
roztoku HF ako anóda.
Plazmové leptanie
Metóda je založené na premene materiálu leptaného substrátu na
prchavú (těkavú) látku.
Plazma vytvorí v pracovnom plyne atomárne radikály (halogény, kyslík),
ktoré následne chemicky reagujú so substrátom. Plazmu tvoria navyše
elektróny a kladné ióny, ktoré bombardujú prítomné povrchy.
(a) Ióny odprašujú povrch, najprv CH a O kontamináciu, potom vlastný
substrát.
(b) Ióny, ak sú chemicky aktívne, priamo reagujú so substrátom za vzniku
prchavej molekuly.
(c) Ióny dissociujú adsorbovaný plyn, čím vznikne radikál na povrchu
substrátu
(d) Radikál z plazmy alebo radikál difundujúci po povrchu reagujú so
substrátom, za vzniku prchavej molekuly.
RIE (reactive ion etching) usporiadanie s výhodou využíva všetky štyri
popísané interakčné mechanizmy.
Interakcie s povrchom
RIE plazmový reaktor
Kontrola RIE je výrazne experimentátorská a empirická záležitosť.
Prietok reaktívnych plynov – ak veľký = nestihnú disociovať; ak malý = pomalé
leptanie.
RF príkon – vyšší príkon zvýši ionizáciu v plazme a tým aj rýchlosť leptania. Súčasne
však zvýši aj podiel neselektívneho iónového odprašovania.
Pracovný tlak – 1-100 Pa. Nízky tlak znamená vyššiu energiu iónov, vyššiu
anizotrópnosť leptania (v plazme je anizotrópny synonymom pre vertikálny), menší
podiel chemických reakcií (dominuje odprašovanie). Nízky tlak ale znamená aj
drahšie zariadenie a problémy so zapňalením a udržaním horenia plazmy.
Prímesi – 10% O2 v CF4 zvýši až 10x leptaciu rýchlosť, tým že podporí tvorbu F.
Zabezpečí kolmý dopad a kinetickú
energiu iónov
RIE s induktívne viazaným výbojom / ICP
Rieši dilemu vysokého stupňa ionizácie plazmy bez privysokého napätia v
stenovej vrstvy tak, že plazmu zapáli mimo leptacej komory.
S takýmto zdrojom plazmy je možné uskupočniť deep RIE (DRIE) –
leptanie s veľkým aspektom.
Konfigurácia s planárnou cievkou
DRIE – tzv. Bosch process
Pre zaistenie čo najvyššej vysokej anizotropicity leptania vyvinuli v Bosch
GmbH proces prepínania pracovných plynov, ktorými sa zámerne pasivujú
bočné steny s cieľom potlačiť laterálne leptanie.
Zúbkovanie scalloping
effect :
Rieši sa optimalizáciou
procedúry
alebo kryoleptaním.
Kritické problémy RIE
Loading (vsádzkový) effect –
nerovnomerné leptanie vďaka
nedostatočnému prísunu
reaktívnych radikálov na
leptaný povrch.
Macroloading – celkové
spomalenie rýchlosti leptania pri
veľkej vsádzke.
Microloading – lokálne vyčerpanie
radikálov, napr. v oblastiach v
vysokou hustotou leptaného
motívu.
ADRE – Aspect ratio dependent
etching – minimálne 8 rôznych
mechanizmov spôsobuje rozdielnu
rýchlosť leptania v závislosti od
rozmerov motívu.
Microtrenching effect – rýchlejšie leptanie v blízkosti stien. Vysvetľuje sa
odrazom iónov dopadajúcim na stenu pod uhlom >80°. Čím hlbšia drážka,
tým je jav prominentnejší (väčšia plocha pre odraz).
Notching effect – podrezávanie, laterálne leptanie na dne leptanej
štruktúry v kontaktne s odolným materiálom (napr. SOI – Si na SiO2).
Vysvetľuje sa hromadením kladného náboja na dielektrickom dne, ktorý
následne odkláňa nové dopadajúce ióny.
Poškodenie iónmi – napriek tomu že energia iónov pri leptaní je relatívne
malá (5-500 eV), ióny môžu preniknúť až do hĺbky 100 nm. Tvorba
defektov v mriežke siaha ešte hlbšie. Čiastočne možno riešiť následným
ohrevom (annealing, existuje však Tmax) alebo znížením kinetickej energie
iónov.
Porovnanie mokrého, anizotrópne mokrého a
plazmového leptania
Pre mnohé aplikácie je voľba leptacej metódy určená iba jej zložitosťou –
prednosť dostane metóda pre ktorú máme hardware, alebo pre ktorú existuje
jednoduchý maskovací materiál.
Keď potrebujeme šikmé steny, alebo podleptanie = izotrópne leptanie.
Hlboké leptanie sa robí mokrým anizotrópnym alebo DRIE leptaním.
Pre komplexné štruktúry (napr. MEMS) sa suché aj mokré leptacie postupy
kombinujú.
Tryska atramentovej (inkoustovej)
tlačiarne:
Manifold - anisotropic wet etching
Inlet channel - DRIE,
Chamber - isotropic wet etching
Nozzle guides - anisotropic plasma
etching
Iónové frézovanie / Ion milling
Iónové frézovanie je čisto fyzikálny postup založený na odprašovaní.
Používa sa na materiály, ktoré nie je možné chemicky odstrániť pomocou RIE.
Bežné ióny Ar+ s energiami 10-5 000 eV (väčšia energia by viedla k implantácii
iónov). Na rozdiel od rektorov RIE vznikajú ióny oddelene od substrátu a
následne sú urýchlené.
Problémy:
- Nízka selektivita fyzikálneho odprašovania
komplikuje výber vhodnej masky, a vedie k
vzniku faziet.
- Odprášené materiály nie sú prchavé a preto sa
ukladajú na blízke povrchy (redepozícia).
Chemicko-mechanické leštenie
Brúsenie – abrazívne častice 1-100 m pripevnené
rezínom k brusnému naśtroja, „odpraskávajú“ kúsky
materiálu, ktorý následne unášajú. Rýchla a hrubá
metóda, ktorá zanecháva na povrchu ryhy
(drsnosť100nm).
Leštenie - jemnejšie častice 10-300nm rozmiešané
v kvapaline (pasta), pričom proces odstraňovanie
materiálu na je v úrovni individuálnych atómov
(drsnosť1nm). Režimy:
- Priamy kontakt (maximálny tlak, abrazívne
častice sa o povrch trú)
- Valivý kontakt (nižší abrazívne častice sa po
povrchu kotúľajú)
- Bez-kontaktne (častice v paste sú unášané
hydrodynamicky)
MRF – Magnetorheological finishing, leštiaca pasta
z ferokvapaliny umožňuje intenzitou magnetického
poľa regulovať režim leštenia.
Chémia ChML / CMP – chemical-mechanical polishing
Pri chemicko-mechanickom leštení sa k mechanickým účinkom trecích síl
pridá aj leptanie. Jednoduchým príkladom je leštenie wolfrámu:
W + 6Fe(CN)6
3- + 3H2O  WO3 + 6Fe(CN)6
4- + 6H+
Oxid wolframový má dve úlohy. Chrámi W pred ďalším leptaní, súčasne sa
však ľahšie mechanicky odstraňuje. Podobne pre Cu, kde CuO2 sa ľahko
odstraňuje.
Využitie leštenia
(a) Vyhladenie
(b) Rovinnosť
(c) Damaškovanie
(plnenie dutín kovom, hlavne Cu)
Pri použití leštenia je mimoriadne dôležité dokonalé očistenie vylešteniej plochy !
Infračervený fotonický kryštál, vyrobený pomocou ChML, ktoré
planarizovalo deponovaný poly-Si (damaškovanie).
Lepenie
Lepenie mikrokomponentov umožňuje jednoduchšiu výrobu
komplexných štruktúr, ale aj manipuláciu s jemnými dielmi.
• Priame lepenie
• Nepriame lepenie prostredníctvom nenesenej vrtstvy („lepidla“)
Teoreticky je možné spojiť akékoľvej dva veľmi hladké povrchy
prostredníctvom van der Waalsových síl (tzv. studené zváranie, slinutie).
Silnejšiu chemickú väzbu je možné v prípade Si zaistiťv týmito technikami:
Silicon fusion bonding
Silanol (Si-OH) na špeciálne ošetrenom a hladkom povrchu waferov (NH4
+H2O2) vytvoria pri priblížení väzby vodíkovými mostíkmi.
Žíhaním pri vysokej teplote vzniknú pevné siloxánové (Si-O-Si) väzby.
Pri 800°C začne Si tiecť, čo ďalej zlepšuje spoj.
Žíhanie (annealing)
Uvoľnená H2O oxiduje Si ďalej na SiO2 (mokrá
oxidácia)
Anodické spájanie
Hlavne pre spájanie Si so sklom, limitom je kompatibilná teplotná rozťažnosť.
Pri ohreve skla nad 400°C sa oxid sodný Na2O rozkladá na Na+ a O2
-. Priložené
napätie (300-1000V) bude při správnej polarite hnať Na+ do vnitra skla a O2-na
povrch, smerom k Si. Na rozhraní prebehne reakcia:
Katióny aj elektróny vytvoria silnú príťažlivú silu. Mimo vákua je potrebné
spájanie iniciovať tlakom.
Aby bolo možné anodicky spájať Si-Si alebo sklo-sklo, deponuje sa na jeden
povrch tenká vrstvička z vhodného materiálu (napr. pyrex, SiN, SiC).
Nepriama nanofabrikácia
Sidewall lithography:
Sústava tenkostenných trysiek
Laterálne uberanie hmoty
Podleptávaním v Si <100> vyrobili Si nanodrôty (tu: 40nm x 700 nm)
Oxidačné zašpičatenie hrotov
Literatúra
Zheng Cui: Nanofabrication Principles, Capabilities and Limits, Springer
Science & Business Media, 2008
Sami Fransilla: Introduction to Microfabrication, Wiley; 2nd Edition 2010
J Reece Roth: Industrial Plasma Engineering, Vol.2, IoP London, 2001