F8542 Experimentální metody a speciální praktikum (jaro 2015)
Přihlášených: 6 studentů
skupina A – Polášková, Jánský (měří 12. 3. 2015)
skupina B - Toman, Šimurda (měří 12. 3. 2015)
skupina C - Talába, Tkáčik (měří 19. 3. 2015)
Použité přístroje: elipsometr UVISEL Jobin-Yvon, UV/VIS spektrofotometr Lambda 1050 Perkin
Elmer, IR spektrofotometr Bruker Vertex 80v
Seznam vzorků a postup zpracování měření
1. Si substráty v IR oblasti (skupA=Si21 a Si26-01, skupB=Si14-01 a Si26-02, skupC= SiEMPA01
a Si26-03)
typy měření:
 propustnost (T) v IR 390-4000 cm-1
(1x) pro jednostranně leštěný Si
 propustnost (T) v IR 390-4000 cm-1
(4x s výměnou a rotací vzorku) pro oboustranně leštěný Si
způsob zpracování:
 Posouzení propustnosti vzorku v IR oblasti a vhodnosti použití takového substrátu pro IR
transmisi. Určení absorpčních píků v Si.
 U oboustranně leštěného Si zprůměrování 4x měřené intenzity (single channel data) s opravou
na možnou změnu “pozadí”, tedy měření intenzity dopadajícího světla. Takto vypočítaná
propustnost Si (TSi) bude sloužit jako normalizační data pro výpočet relativní propustnosti
vzorku s vrstvou Trel=T/TSi.
2. neabsorbující vrstva v UV/VIS (Al2O3, SiO2, MgF2) na oboustranně leštěném Si-26 (skupA =
X2942, skupB = X2905, skupC = X2541)
typy měření:
 odrazivost v UV/VIS 185-850nm (postup měření: výměna normálu a vzorku v předním kanálu,
4x každý)
 propustnost (T) v IR 390-4000 cm-1
(4x s výměnou a rotací vzorku)
způsob zpracování:
 Nafitování průměrné hodnoty odrazivosti v UV/VIS pomocí vlastního programu za
předpokladu normálového dopadu a neabsorbující vrstvy (substrát je absorbující!). Disperzní
model indexu lomu uvažujme Cauchyho dvouparametrickou formuli.
 Posouzení vhodnosti použitého disperzního modelu a závěr ohledně tloušťky vrstvy.
 Identifikace absorpčních píků v IR oblasti.
 Závěr ohledně materiálu vrstvy a porovnání s tabelovanými hodnotami indexu lomu.
3. vrstva plazmového polymeru s aminovými skupinami se slabou absorpcí v UV oblasti
(skupA=Bio100b, skupB= CPA30, skupC=CPA28-I)
typy měření:
 odrazivost v UV/VIS 185-850nm (postup měření: výměna normálu a vzorku v předním kanálu,
4x každý)
 propustnost (T) v IR 390-4000 cm-1
(4x s výměnou a rotací vzorku)
způsob zpracování:
 Nafitování průměrné hodnoty odrazivosti v UV/VIS pomocí vlastního programu za
předpokladu normálového dopadu a neabsorbující vrstvy (substrát je absorbující!). Disperzní
model indexu lomu uvažujme Cauchyho dvouparametrickou formuli.
 Nafitování průměrné hodnoty odrazivosti a elipsometrických parametrů Is, IcII, IcIII v UV/VIS za
předpokladu slabé absorpce ve vrstvě pomocí vhodného disperzního modelu v programu
newAD.
 Posouzení vhodnosti použitých disperzních modelů a závěr ohledně tloušťky vrstvy a jejích
optických konstant.
 Identifikace absorpčních píků v IR oblasti.
4. vrstva s velmi silnou absorpcí ve viditelné oblasti: leštěný monokrystalický křemík (c-Si),
amorfní uhlíková vrstva na Si (a-C), zlatá vrstva na skle (Au)
typy měření:
 elipsometrie
způsob zpracování:
 Určení dielektrické funkce vrstvy přímo z elipsometrických měření za předpokladu
polonekonečného vrstvy (silná absorpce ve vrstvě, takže není vidět rozhraní vrstva-substrát).
 Posouzení vhodnosti postupu zpracování.
 Určení typu materiálu z optických konstant.