Kalibrace manometrů Přímé porovnání Redukce tlaku • metody statické • metody dynamické Pomalý nárůst Molekulární proud Statická expanze Vi V2 Vn-l >1 + V2 ' V2 + V3 " ' Vn-x + Vn V, = 1000 cm <>*-0 V, = 25 cm 1_ 1firemnf materiály firmy Pfeiffer □ SP Dynamická expanze 6 p' k vývěve s velkou čerpací rychlostí Obr. 5.92. Aparatura pro kalibraci vakuometrů metodou s konstantním proudem. Místo dvou vakuometrů (7,8} je možno použít jen jeden (9) s dvoucestným kohoutem (10); 1,10 — kohouty; 2,4,6 — komory; 3,5, 7, 8, 9 — vakuometry; Gt, G2 — vodivosti otvorů mezi příslušnými komorami J. Groszkowski: Technika vysokého vakua, SNTL, Praha 1981 Vakuová fyzika 1 3/33 I = G2(P2 - Pi) = G1(p1 -p') P2 = i + ^(i-^) pí g2 pro velkou čerpací rychlost p' Vakuová fyzika 1 Měření pomocí vodivosti Obr. 5.95. Vakuové zařízení pro měření proudu plynu 1,2 - vakuometry; G - trubice se známou vodivostí _I_= G(pi - p2) kowski: Technika vysokého vakua, SNTL, Praha 1981 12 12S.Ďacľo, LBejček, A. Platil: Měření průtoku a výšky hladiny, jBen, -Praha 2005 Vakuová fyzika 1 16 / 33 Vakuové tuky a tmely Druh materiálu UZltl max T [°C] Pp [Pa] při 25 °C maz L zabrus 30 10~5 - 10~7 maz M zabrus 30 10~3 - 10~5 maz N kohout 30 10~4 - 10~5 maz T zabrus 110 10-5 tmel Picein spoje 60 10~2 - 10-3 Vakuová hygiena Čistota povrchů, odmašťování, vyčištěných dílů se dotýkat pouze v rukavicích. vo 200 300 500 700 1000 2000 3000 13 13 J. Groszkowski: Technika vysokého vakua, SNTL, Praha 1981 5 ^) c\ o Vakuová fyzika 1 Rozebíratelné spoje zábrusy - zejména skleněné aparatury ISO-KF, (NW) ISO-K, ISO-F CF Vakuová fyzika 1 19 / 33 ISO-KF Vakuová fyzika 1 20 / 33 ISO-K, ISO-F CF Vakuová fyzika 1 22 / 33 OFHCCopper Gasket —T-V 17 17firemní materiály firmy Pfeiffer Vakuová fyzika 1 23 / 33 tesnení min. tep. [°C] max. tep. [°C] elastomer FKM -15 150 NBR -25 120 silikon -55 200 kov Cu -196 200 Cu + Ag -196 450 Vakuová fyzika 1 24/33 Load lock 18 18firemní materiály firmy Caburn MDC Vakuová fyzika 1 Výroba solárních článků Plasma A SiH* + PH Shutter SiH< SiH4 + B2H6 Substrate Vacuum n-Chamber i i n lil i 11 r v r i M"1 i K M I I j h I t i i /-Chamber p-Chamber OHanlon: A Users Gaude to Vacuum Technology, Wiley (2003) Pokovení skel 20 Glass Flow Process Pumping Process Pumping Isolation Pumping Cathodes Isolation Tunnel Flange Isolation F|ange Pumping 20 F.OHanlon: A Users Gaude to Vacuum Technology, Wiley (<2§03) Si - substráty Modular Process Zones Gate Valve Sputtering Chamber Door with Viewport Substrate Entry 21 21 F.OHanlon: A Users Gaude to Vacuum Technology, Wiley (2003) Vakuová fyzika 1 28 / 33 100 150 200 300 400 700 1000 1500 2000 4000 6000 10000 Wave length [nm] 22_ 22firemní materiály firmy Pfeiffer Vákuová fyzika 1 29/33 Značky Vacuum pump, general P><^] Shut-off device, general Diaphragm in vacuum pump Right angle valve Turbomoiecular pump Diffusion pump*) Scroll pump*) Cold trap, genera! Vacuum measurement, vacuum gauge head Roots vacuum pump*) 23 23 firemní materiály firmy Leybold Vakuová fyzika 1 30 / 33 Navazující přednášky Vakuová fyzika 2 - F6450 • Vázané plyny • Sorpčnívývěvy • kryogenní • zeolitové • sublimační • iontové • vypařované getry • nevy párované getry -NEG • Měření ve vakuové fyzice • měření proudu plynu • měření tenze par plynu • Konstrukční prvky vakuových zařízení - vhodné materiály, spoje,... Vakuová fyzika 1 31/33 Praktikum z vakuové fyziky - F7541 1. Měření vodivosti vakuových spojů 2. Kalibrace Piraniho manometru 3. Graduace Peningova manometru 4. Měření parciálních tlaků 5. Měření čerpací rychlosti metodou konstantního tlaku 6. Naparování tenkých kovových vrstev 7. Kalibrace ionizačního manometru se žhavenou katodou 8. Čerpací efekt molekulového síta 9. Měření čerpací rychlosti turbomolekulární vývěvy 10. Seznámení s iontovou vývěvou Zkouška test 10 otázek + 2 příklady, maximum 20 bodů A 18 - 20 B 15 - 17 C 12 - 14 D 9 - 11 E 6 - 8 F 0 - 5 Vakuová fyzika 1 33/33