Technologie depozice tenkých vrstev a povrchových úprav

Praktikum


Obecné požadavky na formát protokolu

jak-ma-vypadat-protokol-obecne.pdf

Specifické požadavky na formát protokolu z předmětu F4280

jak-ma-vypadat-protokol-ztechnologie2017.pdf

Popis dvou laboratorních úloh

1. Depozice vrstev metodami napařování el. svazkem / PECVD / ALD

2. Studium typické konfigurace pro PECVD - vysokofrekvenční kapacitně vázaný doutnavý výboj

task descriptions of e-beam/ALD/PECVD laboratory excercises (2)

Další podrobnosti k PECVD

Chyba: Odkazovaný objekt neexistuje nebo nemáte právo jej číst.
https://is.muni.cz/el/sci/jaro2021/F4280/um/69248846/talk-F4280MM-LZ_labPECVD.pdf


Pro vyhodnocení tloušťky vrstev připravených metodou PECVD na Si substrátu se bude hodit následující barevná škála, která je výsledkem interference odraženého světla v tenké vrstvě. Jak sami vidíte lidské oko je velmi dobrý přístroj na měření tlouštěk tenkých vrstev :-), pokud jsou k tomu vytvořeny vhodné podmínky.

Chyba: Odkazovaný objekt neexistuje nebo nemáte právo jej číst.
https://is.muni.cz/el/sci/jaro2021/F4280/um/69248846/grad-ruler.pdf

Vakuová fyzika jako nezbytný základ všech vakuových technologií včetně mnoha metod depozice vrstev:

Chyba: Odkazovaný objekt neexistuje nebo nemáte právo jej číst.
https://is.muni.cz/el/sci/jaro2021/F4280/um/69248846/Vakuova-fyzika-1.pdf
Předchozí
Následující