Technologie depozice tenkých vrstev a povrchových úprav

1. Introduction / Úvod

Prezentace k úvodní části přednášky:
talk-F4280-part01-introduction.pdf

Nahrávky přednášky:

1.1 Field of Expertise, Suggested Literature

F4280_kap1-1.mp4

1.2 Overview of Material Procesing

F4280_kap1-2.mp4

1.3 Introduction to Thin Film Deposition

F4280_kap1-3.mp4

1.4 Applications of Thin Films

F4280_kap1-4.mp4

1.5 Fabrication of microstructures/microdevices

F4280_kap1-5.mp4


Kromě přednášky jsou součástí kurzu F4280 i praktické úlohy:

1. PECVD, e-beam evaporation, ALD

2. Understanding PECVD in capacitively coupled plasmas

3. Magnetron sputter-deposition

Informace o tom, jak má vypadat protokol, popis úkolů jednotlivých úloh a studijní materiály shrnující základy vakuové techniky a popis jednotlivých zařízeni najdete v kapitole Praktikum, kterou doporučuji studovat průběžně během semestru a co nejdříve si udělat také poznámky k teorii jednotlivých úloh. V případě PECVD vrstev diamond like carbon (DLC) Vám doporučuji prostudovat i následující literaturu:

Chyba: Odkazovaný objekt neexistuje nebo nemáte právo jej číst.
https://is.muni.cz/el/sci/jaro2022/F4280/um/recommended_books_-_others/robertson02_DLC_review.pdf

Předchozí
Následující