Technologie depozice tenkých vrstev a povrchových úprav
Praktikum
Obecné požadavky na formát protokolu
Specifické požadavky na formát protokolu z předmětu F4280
Popis dvou laboratorních úloh
1. Depozice vrstev metodami napařování el. svazkem / PECVD / ALD
2. Studium typické konfigurace pro PECVD - vysokofrekvenční kapacitně vázaný doutnavý výboj
Další podrobnosti k PECVD
Chyba: Odkazovaný objekt neexistuje nebo nemáte právo jej číst.
https://is.muni.cz/el/sci/jaro2022/F4280/um/69248846/talk-F4280MM-LZ_labPECVD.pdf
Pro vyhodnocení tloušťky vrstev připravených metodou PECVD na Si substrátu se bude hodit následující barevná škála, která je výsledkem interference odraženého světla v tenké vrstvě. Jak sami vidíte lidské oko je velmi dobrý přístroj na měření tlouštěk tenkých vrstev :-), pokud jsou k tomu vytvořeny vhodné podmínky.
Chyba: Odkazovaný objekt neexistuje nebo nemáte právo jej číst.
https://is.muni.cz/el/sci/jaro2022/F4280/um/69248846/grad-ruler.pdf
Vakuová fyzika jako nezbytný základ všech vakuových technologií včetně mnoha metod depozice vrstev:
Chyba: Odkazovaný objekt neexistuje nebo nemáte právo jej číst.
https://is.muni.cz/el/sci/jaro2022/F4280/um/69248846/Vakuova-fyzika-1.pdf
Následující