Technologie depozice tenkých vrstev a povrchových úprav

5. Chemical vapor deposition

talk-F4280-part05-CVD.pdf

5.1 Gaseous Sources

5.2 Chemical Vapor Deposition Scheme

5.3 Typical Chemical Reactions in CVD
F4280_kap5-1az5-3.mp4

5.4 Variants of CVD

5.5 CVD Precursors & Gas Supply


F4280_kap5-4az5-5.mp4


5.6 Chemical Reactors

5.7 Understanding the Overall Reaction

F4280_kap5-6.mp4

5.8 APCVD versus LPCVD

5.9 MOCVD

5.10 ALD

5.11 Thermal Forming Processes

F4280_kap5-7az5-11.mp4

Předchozí
Následující