Optická emisní spektrometrie s indukčně vázaným plazmatem Vítězslav Otruba Princip atomové emisní spektrometrie 2010prof. Otruba2  AES je založena na produkci a detekci čárových spekter emitovaných při zářivém přechodu elektronů z energeticky vyššího excitovaného stavu do nižšího základního stavu  Tyto elektrony jsou ve vnějších vrstvách atomů a nazývají se optické elektrony  AES je multielementární metoda  Disperzní systém přístroje rozkládá spektrum do prostoru a umožňuje výběr vhodných analytických čar Rozsah vlnových délek ICP-OES 2010prof. Otruba3  Jednotka vlnové délky je nanometr (10-9 m)  Viditelná oblast spektra (VIS) 380 - 780 nm  Ultrafialová oblast spektra (UV) 185 - 380 nm  Vakuová ultrafialová oblast spektra (VUV) 120 – 185 nm  Obvyklý rozsah vlnových délek spektrometru: 160–770 nm  Současný trend: 120 – 770 nm Příklad aplikace VUV - chlor 2010prof. Otruba4 0 500000 1000000 1500000 2000000 2500000 3000000 129,83 130,74 131,65 132,56 133,47 134,37 135,28 136,18 137,08 Wavelength nm rel.Intensity O 130.603 Cl 133.570 Cl 134.724 Cl 135.165 Cl 136.345 O 130.486 ICP 2010prof. Otruba5 Indukčně vázané plazma Základní aplikace ICP Schéma plazmové hlavice  Excitační zdroj pro atomovou emisní spektrometrii (ICP-AES), excitace M a M+  Ionizační zdroj pro anorganickou hmotnostní spektrometrii (ICP-MS), 90%-ní ionizace: M+  Atomizační prostředí pro atomovou fluorescenční spektrometrii (ICP-AFS), dokonalá atomizace 20106 prof. Otruba Schéma ICP-OES spektrometru 2010prof. Otruba7 ICP-AES Spektrální přístroj Zdroj ICP Zavádění vzorku zmlžovač Detektor Vysokofrekvenční generátor Sběr a zpracování dat RF generátory 2010prof. Otruba8  Frekvence  40,68 MHz, obvykle volně běžící oscilátor  27,12 MHz, volně běžící i krystalem řízený oscilátor  Konstrukce  Elektronkové, chlazení vodou  Elektronkové, chlazení vzduchem  Polovodičové  Výkon  1 – 3 kW pro plazmové hlavice Ar-Ar  Až 6 kW pro plazmové hlavice Ar-vzduch nebo Ar-N2 Optika 2010prof. Otruba9  Monochromátory obvykle s rovinnou mřížkou Czerny-Turner s možností skenování celého spektra a výměnnými mřížkami pro UV a viditelnou oblast spektra.  Polychromátory s dutou mřížkou (obvykle montáž Paschen-Runge)  Polychromátory s echelle mřížkou a rozkladem řádů obvykle hranolem, případně mřížkou (na průchod, výjimečně na odraz) Detekce záření 2010prof. Otruba10  Klasické fotonásobiče  za výstupní štěrbinou, často výměnné pro UV (menší temný proud) a VIS (spektrální rozsah do blízké IR)  za výstupními štěrbinami polychromátoru (až několik desítek), typy optimalizované pro danou vlnovou délkuVUV – UV –VIS)  Polovodičové detektory  Diodová řada s paralelními zesilovači (JY)  Diodové řady CCD (diode array) např. Spectro Cirros,  Segmentované detektory s použitím CCD diode array pro echelle spektrometry (např. Perkin-Elmer)  CCD plošné detektory (pro echelle sp., levnější)  CID plošné detektory (odstraněn blooming, adresování, nedestruktivní čtení dat)  MOS plošné detektory ve vývoji Plazmová hlavice 2010prof. Otruba11 Indukční cívka 3-5 závitů Vnější plazmový plyn 12 L/min Ar Střední plazmový plyn 0-0.5 L/min Ar Nosný plyn (aerosolu) 0.6-1 L/min Ar Analytická zóna Plazmová hlavice SiO2 3 koncentrické trubice Elektromagnetické pole, frekvence 27 MHz, 40 MHz výkon 1-2 kW Inductively Coupled Plasma Záření do spektrometru Iniciace výboje: ionizace jiskrou Fyzikální vlastnosti ICP výboje 2010prof. Otruba12  Chladnější centrální kanál se vzorkem je obklopen horkým anulárním plazmatem  Excitované atomy v kanálu nejsou obklopeny atomy v nižších energetických stavech  V indukční oblasti je minimální absorpce záření analytu ⇒ linearita kalibračních závislostí je 5 – 6 řádů Vnášení vzorku do plazmatu 2010prof. Otruba13 Vzorky  Kapalné (mokrý nebo suchý aerosol)  Pevné (suchý aerosol, přímé vypařování vzorku) Požadavky na vlastnosti aerosolu  Účinná tvorba aerosolu nezávislá na vlastnostech vzorku  Dobrá účinnost transportu aerosolu  Minimální paměťový efekt  Stabilita tvorby a transportu aerosolu  Identické složení vzorku a aerosolu  Dominantní zastoupení jemných částic aerosolu Typy zmlžovačů kapalin 2010prof. Otruba14  Koncentrický zmlžovač se sacím efektem (Meinhard)  Úhlový zmlžovač (Kniseley)  V-drážkový zmlžovač (Volcott+Sobel)  Mřížkový zmlžovač (Hildebrand)  Fritový zmlžovač (Apel+Bienewski)  Jet-impact zmlžovač (Doherty+Hieftje)  Hydraulický vysokotlaký zmlžovač (Knauer)  Thermospray  Ultrazvukový zmlžovač (Dunken+Pforr) MEINHARD CONCENTRIC GLASS NEBULIZER (CGN) SELF-ASPIRATING (VENTURI EFFECT) 2010prof. Otruba15 65 mm Carrier Ar 0.7-1 L/min Free uptake by self-aspiration 1-3 mL/min Annular gap 10-35 μm Aerosol l Nebulization efficiency  5% l Maximum salt conc. 20-40g/L l Capillary clogging l Ar humidifier improves tolerance to dissolved solids Pumping eliminates influence of solution properties and level height.“Starving” nebulizer - pump delivers less than suction uptake  good signal stability Cross-flow nebulizer (CFN) with or without Venturi effect 2010prof. Otruba16 Sample Argon  Less efficient than CGN  Less sensitivity  Larger capillaries  Less clogging problems  More rugged  Corrosion resistant tips of nebulizer (Pt, sapphire)  Ar flow 0.6-1 L/min  Solution pumping 1-2 mL/min Babington nebulizer (1973) 2010prof. Otruba17 Ar Sample Orifice 0.1-0.2 mm Aerosol The liquid flows over a smooth surface with small hole in it. High speed Ar gas emanating from the hole shears the sheet of the liquid into small droplets. NoVenturi effect Resistant to clogging Nebulize viscose liquids Various modifications Garbarino &Taylor 1980 V-groove nebulizer = high solids nebulizer = maximum dissolved solids nebulizer 2010prof. Otruba18 V-groove Pumped solution Argon  NoVenturi effect  1-mm solution capillary diameter  0.1 mm gas capillary diameter  No clogging  Concentrated soln. 100g/L  Slurry nebulization Suddendorf & Boyer 1980Wolcott & Sobel 1978 Grid nebulizer (Hildebrand) 2010prof. Otruba19 Ar Ring groove Solution capillary Sapphire crystal Aerosol  NoVenturi effect  Sapphire jet  diam. 0.17 mm  Concentrated solutions  Viscous solutions  Hydride generation 12 mm 2 platinum grids Ultrasonic nebulizer (USN) with desolvation unit 2010prof. Otruba20 Heating tape TransducerTo RF source Sample - from pump Ar Aerosol Solvent evaporation Dry aerosol Drain Drain From chiller Coolant Condenser Dry aerosol + solvent vapour 20 Scott double-pass spray chamber 2010prof. Otruba21 Ar Solution Drain Scott, Fassel, Kniseley Nixon (1974) Vnášení plynných vzorků 2010prof. Otruba22  Generování těkavých hydridů (As, Sb, Bi, Se,Te, Ge, Sn)  Generování dalších těkavých prvků a sloučenin: Cl, Br, I, SO2, karbonylůV, Ni, Fe..  Těkavých dithiokarbamátů, fluoroacetonátů, diketonů (Cr, Co, Fe, Mn, Zn)  Plynová chromatografie organických látek s ICP detekcí: Cl, Br, I, B, C, S, P, O, N  Zavádění vzduchu pro stanovení nečistot v ovzduší Hydride generation (HG-ICP) 2010prof. Otruba23  Historically - Marsh reaction in Gutzeit test for As  3 Zn + 6 H+  3 Zn2+ + 6H*  AsO3 3- + 6 H* + 3 H+  AsH3 + 3 H2O  2 H*  H2  Since 1972:  2 NaBH4 + 2 H+  B2H6 + 2 Na+  B2H6 + 3 H2O  2 H3BO3 + 6 H*  AsO3 3- + 6 H* + 3 H+  AsH3 + 3 H2O  2 H*  H2 Vnášení pevných vzorků 2010prof. Otruba24  Zmlžování suspenzí  Elektrotermická vaporizace  Fluidní lože  Zařízení pro vsunutí pevného vzorku do plazmatu  Laserová ablace  Erose elektrickým obloukem (ablace obloukem)  Erose elektrickou jiskrou (jiskrová ablace) Elektrotermická vaporizace 2010prof. Otruba25 Laserová ablace (LA-ICP-OES) 2010prof. Otruba26 Ar laser kamera zrcadlo čočka ablační komora vedení pohyb vzorku x-y-z vzorek zoom ICP Jiskrová ablace 2010prof. Otruba27  Jiskrová ablace vodivých materiálů (nevodivé jsou lisovány např. s měděným prachem) produkuje při použití jiskry s vysokým napětím aerosol velmi jemných částic. Při generaci větších částic (použití vyšších výkonů jiskry) mohou nastávat rozdíly ve složení jednotlivých frakcí aerosolu vzorku, zejména u supereutektických slitin. Současně se pak zvyšuje výstřelový (flicker) šum. Generování analytického signálu v OES 2010prof. Otruba28 Collisional Processes Electron impact Ion impact 2010prof. Otruba29 Excitation A+q + e  A+q* + e Deexcitation A+q* + e  A+q + e Ionization A+q + e  A+q+1 + e + e,… A+q + e  A+q+n + e + ne 3-body recombination A+q+1 + e + e  A+q + e Radiative recombination A+q+1 + e  A+q + hv Dielectronic capture A+q+1 + e  A+q** Excitation A+q + B+r  A+q* + B+r Ionization A+q + B+r  A+q+1 + B+r + e Charge exchange (transfer) A+q + B+r  A+q+1 + B+r-1 Normally ion-impact processes are less important Excitační procesy v ICP 2010prof. Otruba30 •Ar + e Ar*, Arm (metastabilní, E∼11,7 eV) •Ar + e  Ar+ (Ei=15,7 eV) •Ar + hν Ar+ (radiační ionizace) •Ar+ + X  Ar + X+*   E přenos náboje •Arm + X  Ar + X+* Penningův efekt •e- + X  e- + e- + X+ srážková ionizace •e- + X e- + X* srážková excitace (X - atom analytu) supratermická koncentrace X+* a X+ preferenční excitace iontových čar Laterální a axiální pozorování 2010prof. Otruba31 Iontové čáry Atomové čáry Tailflame (chvost) Initial Radiation Zone (počáteční zářivá zóna) Preheating Zone (předehřívací zóna) Normal Analytical Zone (anal. zóna) Výškapozorování Laterální pozorování Axiální pozorování Měření intenzity emise 2010prof. Otruba32  Sekvenční spektrometry – odečte se intenzita v maximu čáry ze skenu – vysoký šum (krátká integrace) nebo se proměří okolí vrcholu čáry a několika body se proloží vhodná funkce (parabola, Gaussova..) a z ní se odečte maximum emise.  Simultánní spektrometry – jednotlivými kanály se proloží vhodná funkce a z ní se odečte hodnota emise a pozadí. Integrační doba je u všech kanálů detektoru stejná a dostatečně dlouhá Průběh intenzity ve zvoleném spektrálním okně s maximem čáry a body pro korekci pozadí Metody korekce pozadí 2010prof. Otruba33  Měření v místě čáry – on peak: změří se emise vzorku, obsahujícího všechny složky jako analyzovaný vzorek, ale bez analytu, a hodnota pozadí se odečte od analytického signálu nebo se změří emise všech kontaminantů samostatně a jednotlivé příspěvky se odečtou od analytického signálu.  Měření v blízkém okolí čáry – off peak: Je možná v případě A,B,C, není možná v případě D. Výjimečně je možné použít měření pozadí pouze na jedné straně čáry. A – konstantní průběh pozadí B – lineární průběh pozadí C – nelineární průběh pozadí D- strukturované pozadí Spektrum reálného vzorku 2010prof. Otruba34  sample: 0.5534 mg of airborne dust sample HBW 2 per mL, 19 mg/mL of HBO3, 19 mg/mL of HF, 4.9 M HNO3(----);  the same after the decomposition (-.-.-.-.-);  water (…..)  line: Cu I 324.754 nm. Spektrální interference 2010prof. Otruba35  Velké množství čar vybuzených v ICP znamená vysokou pravděpodobnost překryvu atomových a iontových čar. V oblasti 200 – 400 nm je to asi 200 000 čar.  Eliminace:  Velká rozlišovací schopnost spektrometru (100 000 – 500 000)  Výběr vhodné čáry podle atlasu čar (např. NIST) nebo podle seznamu čar a jejich relativních intenzit v programu ICP spektrometru, zde bývají uvedeny i pravděpodobné interference  Matematické korekce podle modelových vzorků interferentů – není optimálním řešením, ale u vzorků s matricí s vysokým počtem čar (Fe,W, Mo, U,Th, REE….) nutné. Mnohdy je nutné přejít na jinou metodiku (např. ICP-MS)  Interference s molekulovými pásy, jejichž složky, i když slabé, mnohdy pokrývají celé spektrum  Molekulové pásy ICP plazmatu: Ar, OH, NH, …  Molekulové pásy z matrice vzorku: CO, CN, NH, ….. Nespektrální interference 2010prof. Otruba36  Interference zmlžování - složení a distribuci velikosti částic aerosolu ovlivňuje:  Povrchové napětí roztoku vzorku  Hustota roztoku vzorku  Typ zmlžovače  Interference snadno ionizovatelných prvků ve vysokých koncentracích (větší než 1 – 10 g/l)  Snižují excitační teplotu  Ovlivňují stupeň ionizace analytu  Snižují koncentraci atomů v metastabilním stavu (Ar*) Spektrální čára 2010prof. Otruba37 RSDS RSDB zero S B  Pracovní parametry zdroje ICP 2010prof. Otruba38  Frekvence generátoru f  Příkon do plazmatu P  Průtoky plynů F:  vnější plazmový Fp  střední plazmový Fa  nosný aerosolu Fc  Průtok roztoku vzorku v  Výška pozorování h nebo axiální pozorování  Integrační doba ti Optimalizační kritéria 2010prof. Otruba39  Koncentrace ekvivalentní pozadí Background Equivalent Concentration, BEC  Nespektrální interference „matrix efekt“ X= S0/SM SBR c )c/S( B BEC  BECRSD3 SBR c RSD3c BBD  S B Analytické parametry přístroje pro prvkovou analýzu 2010prof. Otruba40  Kvalita výsledků:  přesnost (opakovatelnost a reprodukovatelnost; repeatability and reproducibility)  správnost (accuracy; trueness)  Kvalita systému:  počet prvků, které mohou být stanoveny  časová stabilita  selektivita  robustnost (tj. malé interference)  citlivost stanovení a nízká mez detekce  linearita a dynamický rozsah Výsledky měření 2010prof. Otruba41 Systematická chyba správná (certifikovaná) hodnotaexperimentální hodnota přesnost koncentrace Parametry současných ICP-OES spektrometrů 2010prof. Otruba42 vlastnost dobrá hodnota přesnost < 0.2% RSD časová stabilita < 1% RSD/4h spektrální rozlišení < 5 pm v UV oblasti citlivost (SBR) > 70 (Ni 231 nm) stabilita pozadí < 0.3% RSD Meze detekce (3s) ICP-OES JY 138 Ultrace (axiální pozorování) s pneumatickým zmlžovačem 2010prof. Otruba43 prvek mez detekce(ng/l) Cd 226 nm 80 Co 238 nm 210 Cr 205 nm 100 Ni 231 nm 260 Pb 220 nm 1000 Zn 213 nm 40 Meze detekce (3s) ICP-OES Spectro EOP s ultrazvukovým zmlžovačem 2010prof. Otruba44 Prvek LOD (ng/l) Ag 328 nm 37 Be 313 nm 2 Cr 267 nm 28 Fe 259 nm 22 Mn 257 nm 5 P 178 nm 240 Pb 220 nm 180 Sn 189 nm 70 Zn 206 nm 46 Analytické vlastnosti ICP-OES 2010prof. Otruba45  Stanovení 73 prvků včetně P, S, Cl, Br, I  Simultánní a rychlé sekvenční stanovení  Vysoká selektivita (rozlišení spektrometru)  Nízké meze detekce (0.1-10 ng/ml)  Lineární dynamický rozsah 5-6 řádů  Minimální interference osnovy (< ± 10 % rel.)  Přesnost (0.5 - 2 % rel.)  Správnost ( 1 % rel.)  Vnášení kapalných, plynných a pevných vzorků  Běžné průtoky (ml/min) i mikrovzorky (l/min)  Rychlost stanovení 102 - 103 /hod.  Automatizace provozu MP-AES - atomové emisní spektrometry s mikrovlnným plazmatem 2010prof. Otruba46  Tyto spektrometry pro generování plazmatu využívají technologie, která je ověřena v milionech domácností - tj. magnetronu využívaného v mikrovlnných troubách. Pro maximální stabilitu a robustnost plazmatu je plazma obklopeno elektro-magnetickým polem, které zaručuje funkčnost této techniky.  Mikrovlnné plazma vzniká z dvoumolekulového plynu dusíku. Dusík může být vyráběn pomocí dusíkového generátoru což zaručuje naprostou nezávislost na dodávce drahých plynů.Vyšší pořizovací náklady stroje (ve srovnání s plamenovou AAS) mají při častějším využívání velmi rychlou návratnost v úspoře za provozní plyny. Jinou možností je přímé napojení stroje na zásobník dusíku. 2010prof. Otruba47  http://www.youtube.com/watch?feature=player_detailpage &v=dWqTv7kefBI  http://youtu.be/dWqTv7kefBI?hd=1