Vítězslav Otruba DOUTNAVÝ VÝBOJ (GD-OES - GLOW DISCHARGE OPTICAL EMISSION SPECTROMETRY). prof. Otruba 2010 Doutnavý výboj je samostatný výboj se studenou katodou. V katodovém prostoru probíhají elementární procesy, ve kterých vznikají nosiče náboje především iontovým impaktem a fotoemisí. Tepelná ionizace se neuplatňuje. Tlak plynu 10 Pa – 10 kPa, teplota elektronů desítky tisíc Kelvina, atomů nízká. Katodový prostor – největší úbytek potenciálu. Astonův tmavý prostor – malá energie elektronů, nedochází k excitaci. Katodová svítící vrstva – spektrum je dáno plynovou náplní a materiálem elektrod, katodicky rozprašovaném do výboje – analytické aplikace. Kladný sloupec – malý a konstantní potenciálový spád – především analýza plynů. 2 prof. Otruba 2010 DUTÁ KATODA Provozní napětí 200 - 1000V napájení ze zdroje konstantního proudu (záporná odpor výboje – se zvyšujícím se proudem klesá napětí výboje!) Provozní proud 1- 50 mA (chladná katoda), do 1A při horké duté katodě, kdy se mimo odprašování uplatní odpařování materiálu. Aplikace: Vyšší koncentrace (0,1 – 10 ppm), excitace i P, S, F… Př.: stanovení F v UO2 Pouze chladná dutá katoda: jemná struktura čar (chlazení N2 liq.), izotopové složení. Horká dutá katoda (do 2000°C) obsahy 0,01 – 1 ppm 3 prof. Otruba 2010 DUTÁ KATODA + GRIMMOVA VÝBOJKA   Konstrukce pro provozní analýzu v duté katodě i Grimmově výbojce Provozní podmínky:       I = 10 – 1000 mA U ≅ 1000 V p = 50 – 1000 Pa pracovní plyn Ar, He, Ne průměr anody 5 – 12 mm vzdálenost anoda – katoda ≈ 0,2 – 0,8 mm 4 prof. Otruba 2010 FANES     Furnance Atomization Nonthermal Excitation Spectrometry využívá excitace atomů analytu, odpařených v grafitové kyvetě, doutnavým výbojem. Výhody: vysoká účinnost excitace, malé pozadí spektra Meze detekce: min. 0,01 pg Ag, max. 500 pg Se. Bylo použito i pro AAS. 5 prof. Otruba 2010 ANALÝZA PLYNŮ – GEISSLEROVY TRUBICE   Pro analýzu plynů se měří emise kladného sloupce doutnavého výboje, tlak plynu 1 -1000 Pa. Rušivé vlivy:    reakce plynů s elektrodami a výbojkou vliv matrice je velmi značný v nerovnovážném plazmatu je elektronová teplota určována především atomy s nejnižším ionizačním potenciálem 6 prof. Otruba 2010 ANALÝZA PLYNŮ – VF KAPACITNÍ BUZENÍ   VF výboj kapacitně vázaný pomocí vnějších elektrod odstraní vliv elektrod u Geisslerových výbojek. Pracuje se s výkony 50 300 W na frekvencích desítek MHz. Možnost analýzy i velmi malých množství plynu – např. vzorky exosféry Země , kdy se odebírá vzorek o tlaku 10 Pa a objemu cca 500 ml. Detekční limity se pohybují okolo desetin pg. 7 prof. Otruba 2010 CO JE GD-OES (GRIMMŮV VÝBOJ)     Optická emisní spektrometrie s buzením v doutnavém výboji, "GD-OES" je zkratka z anglického označení Glow Discharge Optical Emission Spectrometry Je jedna z nejvýznamnějších metod pro analýzu chemického složení kovových materiálů Je možné ji použít pro prvkovou analýzu např. nitridů, karbidů, oxidů, s použitím vysokofrekvenčního doutnavého výboje i pro analýzu nevodivých látek Mimo analýzy objemového složení homogenních vzorků ("bulk"), umožňuje i analýzu hloubkových koncentračních profilů různých povlaků, tenkovrstvých struktur a povrchově modifikovaných materiálů (QDP, z anglického "Quantitative Depth Profiling"). 8 prof. Otruba 2010 GRIMMOVA VÝBOJKA     vzorek se umístí do excitačního zdroje tak, že je vodivě spojen s katodou a zároveň odděluje vnitřní prostor výbojky od atmosféry pracovní tlak plynu (Ar) je v řádu stovek Pa pracovní napětí typicky 7001200 V, proud 0,2-0,4 A/cm2 v dutině anody vznikne doutnavý výboj, ve kterém analyzovaný vzorek plní funkci katody 9 prof. Otruba 2010 ELEMENTÁRNÍ POCHODY   ionty argonu z plazmatu jsou urychlovány elektrickým polem k povrchu vzorku a vyrážejí atomy vázané v krystalové mřížce vzorku. atomy se dostávají do oblasti plazmatu s velkou koncentrací volných elektronů, zde jsou ve srážkách s elektrony excitovány a při deexcitaci emitují atomové spektrum prvků přítomných ve vzorku. 10 prof. Otruba 2010 ANALYTICKÁ STOPA DOUTNAVÉHO VÝBOJE     Snímek dokumentuje rovnoměrnost odběru vzorku. Buzení poskytuje reprezentativní plochu nutnou na provedení správné a přesné objemové či profilové analýzy. Grimmova výbojka umožňuje proces katodového odprašování s možností řízení elektrického napětí, proudu a tlaku argonu na povrchu vzorku. Snížení interference jednotlivých čar vede k lineární závislosti kalibračních křivek. Vyšší přesnost a nižší spotřeba kalibračních standardů ve srovnání s jiskrou jsou přednostmi GDS. 11 prof. Otruba 2010 PROFIL KRÁTERU  Typický profil kráteru, materiál zinek na oceli, výbojka JY RF-BOSSDVS pro minimalizaci redepozice materiálu na hranách kráteru. Rovinnost dna kráteru je kritická pro měření hloubkových profilů. 12 prof. Otruba 2010 SPEKTROMETR GD-OES   Popsaný způsob atomizace vzorku se nazývá katodové rozprašování (sputtering), kde povrchové vrstvy vzorku jsou odbourávány postupně. Registrujeme-li tedy signál na jednotlivých detektorech jako funkci času, dostáváme informaci o rozložení příslušného prvku v závislosti na hloubce pod povrchem. Lze tedy změřit hloubkový koncentrační profil všech prvků přítomných ve vzorku. Typické rozprašovací rychlosti jsou v řádu několika mikrometrů za minutu 13 prof. Otruba 2010 VÝHODY DOUTNAVÉHO VÝBOJE          Oddělení odprašování a buzení vzorku Lineární kalibrační křivky s širokým dynamickým rozsahem Malá samoabsorbce a redepozice materiálu Většina energie je využita na výhradní buzení atomárních čar Snížení interferencí díky úzkým a přesně definovaným čarám Nezávislost na metalurgické historii Méně standardů na kalibrace Minimální paměťový efekt umožňující rychlý přechod na jinou matrici Nízká spotřeba argonu (cca 1 litr na analýzu) 14 prof. Otruba 2010 OBJEMOVÁ ANALÝZA (BULK)    GDS může analyzovat tenké plechy, špony, lisované práškové materiály apod. U drátů je možná analýza již od průměru 0,3 mm. Při použití chlazení lze analyzovat plechy již od tloušťky 0,05mm. Vysoká přesnost stanovení makrosložek i stopových obsahů (0,001-100%), RSD až 0,2% pro makrosložky. 15 prof. Otruba 2010 OBJEMOVÁ ANALÝZA (BULK)            Nízkolegované až vysokolegované oceli Litiny (bílá a šedá litina) Hliník a jeho slitiny i s vysokým obsahem křemíku Zinek a slitiny zinku Měď a slitiny mědi (bronzy a mosazi) Niklové slitiny a slitiny kobaltu Slitiny nízkotavitelných kovů, pájky (Pb, Zn) Titan a slitiny titanu Wolfram Hořčík a jeho slitiny Slinuté karbidy, prášková metalurgie 16 prof. Otruba MOSAZ 2010 TITANOVÉ SLITINY Číslo měření Cu % Zn % analyt obsah % korel. koef. 1 63,96 36,05 Al ∼ 0,3 – 6,8 0,999 74 2 63,89 36,10 V ∼ 0,1 – 5,6 0,999 98 3 63,88 36,11 Mo ∼ 0,2 – 4,0 0,999 99 4 64,01 35,98 Sn ∼ 0,1 – 2,1 0,999 30 5 63,98 36,01 Fe ∼ 0,05 – 0,4 0,999 38 Cu ∼ 0,05 – 0,4 obsah 63,93 36,06 RSD 0,062% 0,061% variační koef. 0,10% 0,17% OBJEMOVÁ ANALÝZA 17 prof. Otruba 2010 OBJEMOVÁ ANALÝZA 18 prof. Otruba 2010 OBJEMOVÁ ANALÝZA OCELI NI-CR-Co 19 prof. Otruba 2010 ŘEŠENÍ PROFILOVÉ ANALÝZY (QUANTITATIVE DEPTH PROFILING)  QDP je ideální metoda na rychlou hloubkovou profilovou analýzu od desítek nanometrů až po stovky mikronů. Společně s vysokou odprašovací rychlostí (0,5 – 30 mikronů/min.) poskytuje GDS během několika minut informace o úplném chemickém složení (ppm100%) od povrchu vzorku až po jeho substrát. Všechny Povlak nitridu titanu na ocelovém substrátu zastoupené elementy jsou v atomových procentech. QDP analýza měřeny simultánně během kontroluje stechiometrii vrstvy TiN jedné analýzy 20 prof. Otruba 2010 ANALÝZA VRSTEVNATÝCH POVRCHŮ QDP analysis of multilayer sample, including conductive and nonconductive layers. Example of TiN, TiCN, Al O , TiN, and TiCN on cemented carbide. Display of Atomic % vs. Depth for 21 prof. Otruba 2010 REPRODUKOVATELNOST ANALÝZY Three replicate QDPs of the surface of a hard disk exhibiting seven resolved layers at a depth of 100 nanometers. 22 prof. Otruba 2010 APLIKACE VF DOUTNAVÉHO VÝBOJE  V případě nevodivých materiálů se používá vf výboj s kapacitní vazbou mezi budící elektrodou a vodivou oblastí plazmatu, přičemž nevodivá část vzorku plní funkci dielektrika. V důsledku rozdílné pohyblivosti volných elektronů a kladných iontů ve výboji se povrch vzorku nabíjí na vysoké záporné napětí vůči plazmatu, co do velikosti srovnatelné s amplitudou budícího vysokofrekvenčního signálu. V potenciálovém spádu mezi plazmatem a povrchem vzorku se urychlují kladné argonové ionty a rozprašují povrch Analýza galvanicky vzorku podobně jako při pochromovaného stejnosměrném buzení. ocelového plechu s organickým nátěrem 23 prof. Otruba 2010 TECHNOLOGIE - ŽÁROVĚ ZINKOVANÁ OCEL U vzorku jde o "klasickou" technologii žárového zinkování (tavenina Zn obsahuje cca 0.3% Al). Jeho hloubkový koncentrační profil je na obr. vlevo. Pro srovnání je tento povlak zobrazen na příčném výbrusu pomocí rastrovací elektronové mikroskopie (v tomto případě je zinková vrstva vpravo, substrát vlevo). 24 prof. Otruba 2010 TECHNOLOGIE - ŽÁROVĚ ZINKOVANÁ OCEL Vzorek s velmi tlustou vrstvou vytvořenou nevhodnou technologií žárového zinkování (bez přídavku hliníku). Od hloubky cca 20 m zde byla nalezena difúzní mezivrstva s obsahem železa 9-10% a na obrázku struktury jsou jasně patrné krystaly fází bohatých na železo, rostoucí do zinkové vrstvy. Zajímavé a netypické jsou hloubkové profily minoritních prvků Pb, Sn, Ni vzniklé reaktivní 25 difúzí ve vrstvě.