PřF:F6540 Fyz.prin.tech.výr.polovodičů - Informace o předmětu
F6540 Fyzikální principy technologie výroby polovodičů
Přírodovědecká fakultapodzim 2021
- Rozsah
- 3/0/0. 3 kr. (plus ukončení). Ukončení: k.
- Vyučující
- RNDr. Petr Pánek, Ph.D. (přednášející), doc. RNDr. Petr Mikulík, Ph.D. (zástupce)
- Garance
- doc. RNDr. Petr Mikulík, Ph.D.
Ústav fyziky kondenzovaných látek – Fyzikální sekce – Přírodovědecká fakulta
Kontaktní osoba: doc. RNDr. Petr Mikulík, Ph.D.
Dodavatelské pracoviště: Ústav fyziky kondenzovaných látek – Fyzikální sekce – Přírodovědecká fakulta - Rozvrh
- Po 11:00–13:50 Kontaktujte učitele
- Omezení zápisu do předmětu
- Předmět je otevřen studentům libovolného oboru.
- Cíle předmětu
- Cílem přednášek od odborníků z praxe je poskytnout studentům znalosti:
- o procesu výroby polovodičů a polovodičových prvků
- z aplikace fyziky ve výrobě polovodičů
- o postupech optimalizace výrobních procesů na základě fyzikálních a chemických modelů - Výstupy z učení
- Student bude po absolvování předmětu schopen:
- identifikovat a popsat klíčové kroky výroby křemíkových desek a součástek;
- popsat proces růstu krystalu křemíku a klíčové vstupní a výtupní parametry procesu;
- popsat základní typy defektů mřížky křemíku;
- popsat metody analýzy kontaminace povrchu křemíku a proces jeho čištění;
- popsat mechanismus depozice epitaxních vrstev a zařízení pro tento proces;
- popsat proces difuze příměsí v křemíku a jeho oxidace a identifikovat základní parametry procesu;
- popsat fotolitografický proces a uvést základní optické jevy ovlivňující výstup procesu;
- připravit jednoduchý návrh plánovaného experimentu (DOE) a vysvětlit způsob kódování faktorů; - Osnova
- Osnova přednášky:
- Přehled technologie výroby Si desek
- Růst monokrystalů křemíku
- Defekty v Si
- Analýza povrchů ve výrobě polovodičů
- Dekontaminace a leštění povrchu Si desek
- Přehled postupu výroby integrovaných obvodů
- Oxidace Si desek a difuze příměsí
- Chemické a plazmochemické depozice vrstev z plynné faze
- Fotolitografie vrstev, leptání SiO2
- Plazmochemické leptání vrstev, depozice kovových vrstev
- Aplikace statistických metod v průmyslu
- Literatura
- WOLF, Stanley a Richard N. TAUBER. Silicon Processing for the VLSI Era. Sunset Beach, California, U.S.A.: Lattice Press, 1999, 960 s. Vol. 1: Process Technology. ISBN 978-0961672164. info
- KERN, Werner. Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science, Technology, and Applications. New Jersey, U.S.A.: Noyes Publications, 1993, 623 s. Materials Science and Process Technology Series. ISBN 978-0815513315. info
- KITTEL, Charles. Úvod do fyziky pevných látek. 1. vyd. Praha: Academia, 1985, 598 s. URL info
- Výukové metody
- Přednášky odborníků v dané oblasti.
- Metody hodnocení
- závěrečná samostatná práce
- Další komentáře
- Studijní materiály
Předmět je vyučován jednou za dva roky.
L (Předmět je vyučován liché kalendářní roky. O opravný termín kolokvia je ale možné požádat i v podzimním semestru sudých kalendářních roků.).
- Statistika zápisu (podzim 2021, nejnovější)
- Permalink: https://is.muni.cz/predmet/sci/podzim2021/F6540