PřF:FB100 Plasma chemical processes - Informace o předmětu
FB100 Plasma chemical processes (Plazmochemické procesy)
Přírodovědecká fakultapodzim 2011 - akreditace
Údaje z období podzim 2011 - akreditace se nezveřejňují
- Rozsah
- 2/0. 2 kr. Ukončení: z.
- Vyučující
- prof. RNDr. Mirko Černák, CSc. (přednášející)
prof. RNDr. Jan Janča, DrSc. (přednášející) - Garance
- prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
Ústav fyziky a technologií plazmatu – Fyzikální sekce – Přírodovědecká fakulta
Kontaktní osoba: prof. RNDr. Jan Janča, DrSc. - Předpoklady
- F5170 Úvod do fyziky plazmatu && F7241 Fyzika plazmatu 1
F5170 Fyzika plazmatu - Omezení zápisu do předmětu
- Předmět je otevřen studentům libovolného oboru.
- Cíle předmětu
- The goal of this subject is an understanding of selected topics from plasma chemistry with special attention to the techniques important in iindustry.
The main items are as follows:
Rate of plasma chemical reaction.
Different kinds of plasma chemical reactions.
Homogeneous and heterogeneous plasma chemical reactions.
Plasma chemical reactors.
Power supply and matching networks of plasma chemical reactors.
Plasma surface treatment of solid materials.
Plasma polymerization.
Deposition of thin films.
Plasma sputtering and plasma spraying.
Deposition of hard and supra hard coatings.
Mebranes and semipermeable thin films.
Plasma ashing and plasma etching.
Plasma chemical processes in semiconductor industry.
Plasma in modern lighting techniques.
Plasma metallurgy. - Osnova
- Rate of plasma chemical reaction.
- Different kinds of plasma chemical reactions.
- Homogeneous and heterogeneous plasma chemical reactions.
- Plasma chemical reactors.
- Power supply and matching networks of plasma chemical reactors.
- Plasma surface treatment of solid materials.
- Plasma polymerization.
- Deposition of thin films.
- Plasma sputtering and plasma spraying.
- Deposition of hard and supra hard coatings.
- Mebranes and semipermeable thin films.
- Plasma ashing and plasma etching.
- Plasma chemical processes in semiconductor industry.
- Plasma in modern lighting techniques.
- Plasma metallurgy.
- Literatura
- FRIDMAN, Aleksandr Arkad'jevič. Plasma chemistry. 1st pub. Cambridge: Cambridge University Press, 2008, xlii, 978. ISBN 9781107684935. info
- SMIRNOV, Boris Michajlovič. Plasma processes and plasma kinetics : 586 worked out problems for science and technology. Weinheim: WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 2007, ix, 572. ISBN 9783527406814. info
- FRIDMAN, Aleksandr Arkad'jevič a Lawrence A. KENNEDY. Plasma physics and engineering. New York: Taylor & Francis, 2004, 853 s. ISBN 1560328487. info
- Techniques and applications of plasma chemistry. Edited by John R. Hollahan - Alexis T. Bell. New York: John Wiley & Sons, 1974, viii, 403. ISBN 0471406287. info
- MCTAGGART, Frederick Kenneth. Plasma chemistry in electrical discharges. Amsterdam: Elsevier Publishing Company, 1967, xi, 246. info
- Výukové metody
- Teoretická přednáška zahrnující prakticky aplikované plazmochemické procesy.
- Metody hodnocení
- Přednášky.Kolokvium s písemným testem.
- Vyučovací jazyk
- Angličtina
- Informace učitele
- Pro studenty kombinovaného studia bude učitelem dodána vhodná literatura, resp. kopie vybraných částí.
- Další komentáře
- Poznámka k ukončení předmětu: Způsob ukončení je dán individuálním studijním plánem
Předmět je dovoleno ukončit i mimo zkouškové období.
Předmět je vyučován každoročně.
Výuka probíhá každý týden.
- Statistika zápisu (podzim 2011 - akreditace, nejnovější)
- Permalink: https://is.muni.cz/predmet/sci/podzim2011-akreditace/FB100